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EVG620系列单面/双面光刻机
型号/规格：620162#$%^163#$%^164#$%^165#$
产品描述：EVG公司是一家致力于半导体制造设备的供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合...
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供应商等级：免企业未认证
供应商：
联系人：绍兵
联系电话：0100-0000000
联系QQ：
URE-2000A型光刻机
型号/规格：URE-2000A型
产品描述：中国光电URE-2000A型光刻机精准度高，尺寸丰富，运动行程多样化等特点。
所属地区：苏州市
联系人：易工
联系电话：0512-62525802
瑞士Eulitha紫外光刻机,新一代紫外光刻系统
型号/规格：PhableR 10018#$%^19#$贸易商%^141#$全新%^638#$%^20#$ 瑞士
产品描述：PhableR 100 光刻机提供了一种前所未有的功能，它是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶...
联系人：李先生
联系电话：010-82867920
高半自动光刻机 北京特博万德科技有限公司
型号/规格：可选择102#$%^103#$%^139#$%^104#$美国
产品描述：高半自动光刻机
联系电话：010-87700693
NXQ400-6光刻机
产品描述：品牌：恩科优（N＆Q） 型号：NXQ400-6 产地：美国 一、产品简介： MYCRO原装美国恩科优N＆Q系列光刻机（Mask Aligner），是的光刻系统...
联系人：刘为国
联系电话：86-21-33197367
光刻机
型号/规格：N&Q4006
产品描述：品牌：恩科优（N＆Q） 型号：NXQ400-6 一、产品简介： MYCRO原装恩科优N＆Q系列光刻机（Mask Aligner），是的光刻系统，在光刻领域有过35...
紫外光刻机, 曝光机
型号/规格：pe700
产品描述：产地美国
所属地区：哈尔滨市
联系人：李洪岩
联系电话：0451-51752136
手动光刻机 曝光机 光刻机 半导体 mems
型号/规格：手动光刻机102#$mikasa%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本
产品描述：手动光刻机，便宜，性能好。 产地；日本 可根据客户具体要求，定制。 适合研发类用户 曝光类型：单面 ◆曝光面积：≥φ115mm ◆曝光不均匀性：≤±3% ...
联系人：盛先生
联系电话：021-58200880-886
Ushio 紫外线汞灯 ??ASML、CANON、Ultratech、Nikon等大型光刻机 光源灯
型号/规格：Ushio102#$Ushio %^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本
产品描述：日本Ushio 公司是的半导体光刻设备光源供应商，占有份额。 ???? 特点： 、Ultr...
USHIO投影式全自动光刻设备,光刻机 step
型号/规格：USHIO102#$%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本
产品描述：详细信息 UX-4系列全自动投影式光刻设备主要运用于大尺寸的LED芯片生产和研发。同时又可以运用于半导体MEMS芯片的新品开发和大批量生产。 特点： *限度...
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