- 品牌/商标：MYCRO
- 企业类型：贸易商
- 新旧程度：全新
- 原产地：美国
NQ光刻机/曝光机的应用领域：
◆LED
◆MEMS
◆IC
◆Mircro-optics
NQ光刻机/曝光机的产品特点：
◆ 采用双面对准技术，可达到0.5微米；
◆ 光刻机的分辨率可达到0.6微米；
◆ 光强均匀度可以达到+/-3%(4英寸)和+/-4%（6英寸）。
◆ 高灵敏度光强可控电源
需要更详细的N&Q恩科优光刻机产品资料，
请与迈可诺技术有限公司中国营销服务中心区域办公室联系!
◆LED
◆MEMS
◆IC
◆Mircro-optics
NQ光刻机/曝光机的产品特点：
◆ 采用双面对准技术，可达到0.5微米；
◆ 光刻机的分辨率可达到0.6微米；
◆ 光强均匀度可以达到+/-3%(4英寸)和+/-4%（6英寸）。
◆ 高灵敏度光强可控电源
需要更详细的N&Q恩科优光刻机产品资料，
请与迈可诺技术有限公司中国营销服务中心区域办公室联系!
